在聚醋酸酯柔性襯底上沉積了不同厚度的酞菁氯化銦薄膜，作為一種新的光學(xué)限制和激光濾光片應(yīng)用。

用x射線衍射研究了PcInCl薄膜的晶體結(jié)構(gòu)，在50 ~ 140 nm的不同厚度下，PcInCl薄膜具有非晶態(tài)形態(tài)。

對不同厚度(線性和非線性)PcInCl薄膜的光學(xué)性質(zhì)進行了計算和討論。

折射率為2.7 eV，能隙為1.36 eV。

測量的非線性折射率和非線性三階磁化率在10 ~ 10esu范圍內(nèi)。

PcInCl薄膜具有較高的激光光限幅性，是一種很有前途的激光濾光材料。

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四叔丁基酞菁硅水合物|CAS號: 85214-70-6

二氧化硅包覆菁染料殼核型納米顆粒

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