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          卟啉|玻璃基體中核心修飾的自由基卟啉的非線性光學(xué)性質(zhì) ?
          發(fā)布時間:2022-01-04     作者:卟啉   分享到:

          兩種不同類型的加熱吸用卟啉與中央核心的變化,即H2TPP (meso-5、10、15、20 - tetrakis苯基卟啉)和HSTPP (20-tetra-phenyl-23-H-21-thiaporphyrin meso-tetrakis 5、10、15日)被引入硼酸玻璃基質(zhì)和發(fā)達(dá)的薄膜融化淬火技術(shù)。由于核修飾和玻璃基體中擴展的非平面性,HSTPP的吸收光譜在soret和Q波段表現(xiàn)出強烈的紅移。

          HSTPP的發(fā)射光譜在739 nm (S1→S0)和~ 505 nm處表現(xiàn)出強烈的發(fā)射,這是由于中心硼原子的配位作用,N-BO3振動的凍結(jié)使其從高能態(tài)緩慢弛豫。

          BF3O(C2H5)2處理,模擬硼酸鹽玻璃基體中硼的中心配位結(jié)構(gòu)。由于BF3在硼酸鹽玻璃基體和溶液中的相互作用,其激發(fā)態(tài)壽命縮短,具有開發(fā)光限幅器件的潛力。

          非線性光學(xué)研究揭示了皮秒(ps)區(qū)域的反向飽和吸收(RSA)行為,并顯示通過核心修飾增強了雙光子吸收(TPA)。玻璃基質(zhì)中HSTPP的光功率限制測量值為15.2 mJ/cm2。兩種不同類型的加熱吸用卟啉與中央核心的變化,即H2TPP (meso-5、10、15、20 - tetrakis苯基卟啉)和HSTPP (20-tetra-phenyl-23-H-21-thiaporphyrin meso-tetrakis 5、10、15日)被引入硼酸玻璃基質(zhì)和發(fā)達(dá)的薄膜融化淬火技術(shù)。由于核修飾和玻璃基體中擴展的非平面性,HSTPP的吸收光譜在soret和Q波段表現(xiàn)出強烈的紅移。HSTPP的發(fā)射光譜在739 nm (S1→S0)和~ 505 nm處表現(xiàn)出強烈的發(fā)射,這是由于中心硼原子的配位作用,N-BO3振動的凍結(jié)使其從高能態(tài)緩慢弛豫。用BF3O(C2H5)2處理,模擬硼酸鹽玻璃基體中硼的中心配位結(jié)構(gòu)。

          由于BF3在硼酸鹽玻璃基體和溶液中的相互作用,其激發(fā)態(tài)壽命縮短,具有開發(fā)光限幅器件的潛力。非線性光學(xué)研究揭示了皮秒(ps)區(qū)域的反向飽和吸收(RSA)行為,并顯示通過核心修飾增強了雙光子吸收(TPA)。玻璃基質(zhì)中HSTPP的光功率限制測量值為15.2 mJ/cm2。


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