mr-DWL系列負性光刻膠 母帶/微光學(xué)
mr-DWL系列負性光刻膠 母帶/微光學(xué)
貨號 | 規(guī)格 | 數(shù)量 | 價格 |
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Q-0101399 | 100mg |
1
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詢價 |
Q-0101399 | 250mg |
1
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Q-0101399 | 500mg |
1
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Q-0101399 | 1g |
1
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Q-0101399 | 5g |
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張惠寧銷售經(jīng)理

業(yè)務(wù)范圍:AIE材料 | 熒光產(chǎn)品 | MOF產(chǎn)品 | 二維納米 | 糖化學(xué) | 凝集素 | PEG
如該產(chǎn)品產(chǎn)生售后問題,請聯(lián)系我們:
產(chǎn)品介紹
光刻膠是利用光化學(xué)反應(yīng)經(jīng)光刻工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì),由成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑等主要化學(xué)品成分和其他助劑組成
可根據(jù)要求定制薄膜厚度:
mr-I 9000M 系列納米壓印抗蝕劑
ma-N 1400 系列負性光刻膠
ma-N 400 系列 負性光刻膠 PVD 和剝離
ma-N 2400 系列 負性光刻膠 干蝕刻掩模
mr-DWL系列負性光刻膠 母帶/微光學(xué)
EpoCore & EpoClad 系列負性光刻膠 波導(dǎo)
mr-EBL 6000 系列負性光刻膠 干蝕刻掩模
ma-P 1200G 系列 正性光刻膠 蝕刻掩模、電鍍模具
ma-P 1200 系列 / ma-P 1275HV 正性光刻膠 蝕刻掩模、電鍍模具
mr-P 1200LIL 系列正性光刻膠 干蝕刻掩模
InkEpo 系列負性光刻 膠噴墨材料
參數(shù)信息 | |
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外觀狀態(tài): | 固體或粉末 |
質(zhì)量指標(biāo): | 95%+ |
溶解條件: | 有機溶劑/水 |
CAS號: | N/A |
分子量: | N/A |
儲存條件: | -20℃避光保存 |
儲存時間: | 1年 |
運輸條件: | 室溫2周 |
生產(chǎn)廠家: | 西安pg電子官方生物科技有限公司 |
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