紫外負(fù)膠（厚膠），適用于LIGA及MEMS應(yīng)用，涂膠厚度 10um@1000rpm。SX AR-N 4600-10/3 : 結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性好、重復(fù)性好，厚度可達(dá)幾百微米，適用于保留膠體結(jié)構(gòu)的應(yīng)用，SX AR-N 4650-10/4 : 容易去膠，適合于電鑄工藝。
| 貨號 | 規(guī)格 | 數(shù)量 | 價(jià)格 |
|---|---|---|---|
| Q-0101357 | 100mg |
1
|
詢價(jià) |
| Q-0101357 | 250mg |
1
|
詢價(jià) |
| Q-0101357 | 500mg |
1
|
詢價(jià) |
| Q-0101357 | 1g |
1
|
詢價(jià) |
| Q-0101357 | 5g |
1
|
詢價(jià) |
17778955912
1521565887
1521565887@qq.comSX AR-N 4600-10/3
SX AR-N 4650-10/4
紫外負(fù)膠（厚膠），適用于LIGA及MEMS應(yīng)用，涂膠厚度 10um@1000rpm。SX AR-N 4600-10/3 : 結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性好、重復(fù)性好，厚度可達(dá)幾百微米，適用于保留膠體結(jié)構(gòu)的應(yīng)用，SX AR-N 4650-10/4 : 容易去膠，適合于電鑄工藝。
類別：一種光刻膠
供應(yīng)商：西安pg電子官方生物科技有限公司
用途：科研
相關(guān)產(chǎn)品：
紫外光刻膠（Photoresist）
|
類型 |
型號 |
特性 |
|
正膠 |
AR-P 1200 |
適合噴涂（Spray Coating）的正性光刻膠。膠層表面非常平整,且可很好的保護(hù)粗糙的襯底表面，可用于復(fù)雜工藝。 |
|
AR-P 3100 |
高靈敏度光刻膠.膠膜薄且均勻. 在玻璃和鍍鉻表面附著力好，可用于光學(xué)器件加工,掩膜制作等。另有，AR-P 3170 可以做出 100nm，甚至更小的線條（幾十納米）。 |
|
|
AR-P 3200 |
黏度大，可得到厚膠膜，厚度可達(dá)幾十微米，甚至上百微米。膠膜覆蓋能力好，適合粗糙的 Wafer 表面涂膠，可很好的保護(hù)結(jié)構(gòu)邊緣。圖形剖面邊緣陡直。適合做LIGA或電鍍工藝等。 |
|
|
AR-P 3500 |
于集成電路制造中的掩膜加工。 高敏感、高分辨率且在金屬和氧化物表面附著力好。其中，AR-P 3500T是針對 AR-P 3500 系列進(jìn)行優(yōu)化，而新研制的一種光刻膠；性能和AR-P 3500相似 |
|
|
AR-P 3740 |
高分辨率光刻膠，制作亞微米結(jié)構(gòu)，適于高集成電路制作。光刻膠表面平整均勻，高敏感度、高對比、工藝寬容度大。 AR-P 3840為染色的光刻膠，可以降低駐波和散射等的影響。 |
|
|
AR-P 5300 |
Lift-off工藝用膠，利用普通的光刻工藝便可很容易得進(jìn)行剝離工藝。高敏感、高分辨率， 且與金屬和氧化物表面附著良好。 |
|
|
|
| 參數(shù)信息 | |
|---|---|
| 外觀狀態(tài)： | 固體或粉末 |
| 質(zhì)量指標(biāo)： | 95%+ |
| 溶解條件： | 有機(jī)溶劑/水 |
| CAS號： | N/A |
| 分子量： | N/A |
| 儲存條件： | -20℃避光保存 |
| 儲存時(shí)間： | 1年 |
| 運(yùn)輸條件： | 室溫2周 |
| 生產(chǎn)廠家： | 西安pg電子官方生物科技有限公司 |
-
KrF深紫外光刻膠系列 DK2060 DK3030 DKN1100
-
DK1089 DK1087 KrF深紫外光刻膠系列
-
AR-N 4400 厚膠，化學(xué)放大膠，可以做lift-off工藝。 i線、g線、深紫外、X-ray、電子束等都可以實(shí)現(xiàn)曝光。涂膠厚度從幾十微米到上百微米，覆蓋能力好，可用于表面粗糙的wafer表面涂覆，且剖面陡直，高分辨率�；瘜W(xué)放大膠，靈敏度也非常高�？捎糜贚IGA、電鍍等工藝。 采用堿性水溶液顯影，除膠非常容易，可以替代傳統(tǒng)的SU8膠。
-
AR-N 4340 化學(xué)放大膠，紫外曝光，可做lift-off工藝。 i線、g線曝光。化學(xué)放大膠，高靈敏度，高分辨率，高對比度，在金屬和氧化物表面附著力好，可用于lift-off工藝。
官方微信
官方微博