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AR-N 4240 紫外、深紫外曝光，可做lift-off工藝。 i線、深紫外曝光 負(fù)性光刻膠
AR-N 4240 紫外、深紫外曝光，可做lift-off工藝。 i線、深紫外曝光。適合制作亞微米圖形，滿足集成電路制造中的關(guān)鍵工藝要求而設(shè)計(jì)。
| 貨號(hào) | 規(guī)格 | 數(shù)量 | 價(jià)格 |
|---|---|---|---|
| Q-0101354 | 100mg |
1
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詢價(jià) |
| Q-0101354 | 250mg |
1
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詢價(jià) |
| Q-0101354 | 500mg |
1
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詢價(jià) |
| Q-0101354 | 1g |
1
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詢價(jià) |
| Q-0101354 | 5g |
1
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詢價(jià) |
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AR-N 4240 紫外、深紫外曝光，可做lift-off工藝。 i線、深紫外曝光。適合制作亞微米圖形，滿足集成電路制造中的關(guān)鍵工藝要求而設(shè)計(jì)。良好的耐等離子體刻蝕性能，在金屬和氧化物表面的附著力好，并可用于lift-off工藝。
類(lèi)別：一種光刻膠
供應(yīng)商：西安pg電子官方生物科技有限公司
用途：科研
| 參數(shù)信息 | |
|---|---|
| 外觀狀態(tài)： | 固體或粉末 |
| 質(zhì)量指標(biāo)： | 95%+ |
| 溶解條件： | 有機(jī)溶劑/水 |
| CAS號(hào)： | N/A |
| 分子量： | N/A |
| 儲(chǔ)存條件： | -20℃避光保存 |
| 儲(chǔ)存時(shí)間： | 1年 |
| 運(yùn)輸條件： | 室溫2周 |
| 生產(chǎn)廠家： | 西安pg電子官方生物科技有限公司 |
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