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lift-off工藝光刻膠AR-P 5350，AR-P 5400，AR-N 4240，AR-N 4340，AR-N 4400
光刻膠推薦：AR-P 5350，AR-P 5400，AR-N 4240，AR-N 4340，AR-N 4400等
| 貨號(hào) | 規(guī)格 | 數(shù)量 | 價(jià)格 |
|---|---|---|---|
| Q-0101300 | 100mg |
1
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詢價(jià) |
| Q-0101300 | 250mg |
1
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詢價(jià) |
| Q-0101300 | 500mg |
1
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詢價(jià) |
| Q-0101300 | 1g |
1
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詢價(jià) |
| Q-0101300 | 5g |
1
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詢價(jià) |
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業(yè)務(wù)范圍：AIE材料 | 熒光產(chǎn)品 | MOF產(chǎn)品 | 二維納米 | 糖化學(xué) | 凝集素 | PEG
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lift-off工藝
溶脫剝離法（lift-off）是微納加工中應(yīng)用到的最普遍的圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)之一。其基本原理是由光學(xué)或電子束曝光**形成光刻膠的圖形，在薄膜沉積之后將光刻膠用除膠劑等溶解清除，凡是沒有被光刻膠覆蓋的區(qū)域都留下了金屬薄膜，實(shí)現(xiàn)了由光刻膠圖形向金屬薄膜圖形的轉(zhuǎn)移。
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| 參數(shù)信息 | |
|---|---|
| 外觀狀態(tài)： | 固體或粉末 |
| 質(zhì)量指標(biāo)： | 95%+ |
| 溶解條件： | 有機(jī)溶劑/水 |
| CAS號(hào)： | N/A |
| 分子量： | N/A |
| 儲(chǔ)存條件： | -20℃避光保存 |
| 儲(chǔ)存時(shí)間： | 1年 |
| 運(yùn)輸條件： | 室溫2周 |
| 生產(chǎn)廠家： | 西安pg電子官方生物科技有限公司 |
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