以合成的酞菁銦(InPc- br)為引發(fā)劑，通過電子轉(zhuǎn)移原子轉(zhuǎn)移自由基聚合再生激活劑，制備了一系列不同分子量的以酞菁銦聚合物為核的四臂星形聚甲基丙烯酸甲酯(InPc- PMMAx 4)。

通過NMR、FT-IR、GPC、UV-Vis和PL光譜對(duì)InPc-(PMMAx)4聚合物進(jìn)行了表征。用z掃描技術(shù)研究了InPc-(PMMAx)4聚合物的非線性光學(xué)(NLO)性質(zhì)，結(jié)果表明，InPc-(PMMA16)4聚合物具有較好的非線性光學(xué)(NLO)性質(zhì)，其三階磁化率(Im[χ(3)])為16.4 × 10?12 esu。

此外，將InPc-(PMMA16)4與NaN3和1-(4-硝基苯)-2-(4-(prop-2-yn-1-yloxy)苯基)偶氮(Azo-yne)通過click反應(yīng)合成了一種新型InPc聚合物InPc-(PMMA16-b- azo)4。與InPc-(PMMA16-b-Azo)4相比，InPc-(PMMA16)4在707 nm處表現(xiàn)出較弱的熒光，說明了Azo與InPc之間的能量轉(zhuǎn)移(ET)過程，這可以用密度泛函理論來證明。

由于ET過程的影響，InPc-(PMMA16-b- azo)4表現(xiàn)出比InPc-(PMMA16)4更好的NLO性能，Im[χ(3)]為20.7 × 10?12 esu。此外，還制備了InPc-(PMMA16-b-Azo)4/PMMA配合物，其Im[3]值為30.2 × 10?12 esu，**閾值為0.04 J/cm2。InPc-(PMMA16-b-Azo)4/PMMA配合物的NLO性能**提高，在聚甲基丙烯酸甲酯基體中的聚集效應(yīng)弱于在甲基丙烯酸甲酯溶液中的聚集效應(yīng)。我們的研究為合成具有實(shí)際應(yīng)用價(jià)值的高性能NLO材料提供了一個(gè)有前景的設(shè)計(jì)策略。

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