射頻磁控濺射技術(shù)在聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)基片上制備了柔性Al/Cu/ZnO多層薄膜，利用氮化硼(BN)層提高薄膜的光電性能穩(wěn)定性。

通過分析不同BN層厚度的柔性BN/Al/Cu/ZnO多層膜的表面形貌、化學(xué)組成和光電性能，

發(fā)現(xiàn)BN層厚度為100 nm的BN/Al/Cu/ZnO薄膜(BN100/Al/Cu/ZnO)綜合光電性能**，優(yōu)值為0.82 × 10?3 Ω?1，并進一步研究了其性能隨貯存溫度和時間的變化。

發(fā)現(xiàn)比鋁/銅/氧化鋅薄膜,BN100 /鋁/銅/氧化鋅薄膜有更穩(wěn)定的光電性質(zhì)在不同儲存溫度和時間,這是推斷是由于良好的氧化和熱電阻的BN層有利于避免表面損傷和氧化的電影。

本工作的結(jié)果表明，BN層在提高柔性Al/Cu/ZnO薄膜光電性能穩(wěn)定性方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用，

為提高單層或多層柔性透明導(dǎo)電薄膜的熱穩(wěn)定性和長時間穩(wěn)定性提供了一種可行的策略。

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