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          酞菁|含席夫堿和鹵素的新型酞菁鋅的合成 光物理、光化學(xué)和熒光猝滅研究
          發(fā)布時(shí)間:2022-01-07     作者:酞菁   分享到:

          一系列新型的對稱四取代酞菁鋅,即{2,9,16,23-四(4-[4-{(1E)-(4-氟苯基)亞甲基]氨基}苯氧基])-酞菁鋅(II)(7)、{2,9,16,23-四(4-[4-{(1E)-(4-氯苯基)亞甲基]氨基}苯氧基])-酞菁鋅(II)(8)。

          和{2,9,16,23- tetra -(4-[4-{(1E)-(4-溴苯基)亞甲基]氨基}苯氧基])-酞菁亞甲基}鋅(II)(9)。

          用紫外-可見光譜(UV-Vis)、紅外光譜(FT-IR)、核磁共振氫譜(1H NMR)、質(zhì)譜(MALDI-TOF MS)和元素分析等方法對合成的大分子進(jìn)行了表征。

          研究了新合成的酞菁includi?ng在不同溶劑(DMF、DMSO和THF)下的光物理化學(xué)性質(zhì)、熒光、光降解和單重態(tài)氧量子產(chǎn)率,以探索其作為光敏化劑的潛力。

          研究了溶劑對含4-{[(1E)-(4-氟苯基)亞甲基]氨基苯氧、4-{(1E)-(4-氯苯基)亞甲基]氨基苯氧、4-{(1E)-(4-溴苯基)亞甲基]氨基苯氧四取代酞菁的光物理和光化學(xué)參數(shù)的影響。

          與已知的含有酞菁的希夫堿相比,新合成的化合物表現(xiàn)出更高的單線態(tài)氧值。

          配合物(7-9)的單重態(tài)氧產(chǎn)率在0.57 ~ 0.86之間。

          由于化合物具有較高的單線態(tài)氧產(chǎn)率(7-9),它們可被列為光催化應(yīng)用的光敏劑,如光動(dòng)力療法(PDT),這是一種**的**癥**方法。

          更多推存:

          cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁鈀 (II)

          cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)

          四叔丁基酞菁硅水合物|CAS號: 85214-70-6

          二氧化硅包覆菁染料殼核型納米顆粒

          西安pg電子官方生物科技有限公司是國內(nèi)光電材料,納米材料,聚合物;化學(xué)試劑供應(yīng)商;**于科研試劑的研發(fā)生產(chǎn)銷售。供應(yīng)有機(jī)發(fā)光材料(聚集誘導(dǎo)發(fā)光材料)和發(fā)光探針(磷脂探針和酶探針)、碳量子點(diǎn)、金屬納米簇;嵌段共聚物等一系列產(chǎn)品。sjl2022/01/07

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