酞菁具有獨特的吸附和光敏特性，是一種很有前途的光催化材料。

本文制備了三個以Al3+和Co2+離子為中心金屬的酞菁（Pcs）衍生物，并將其吸附在MOFs基體上。

研究了亞甲基藍（MB）和甲基橙（MO）及其混合物在可見光下的光催化降解性能。

NH2-MIL-125、Al-PcCl@NH2-MIL-125、CoPc@NH2-MIL-125和CoPcPA@NH2-MIL-125的光催化劑降解率分別為0.01、0.012、0.035和0.046 min?1 MB，而MO的降解率分別為0.021、0.027、0.052和0.082。

令人驚訝的是，在MO存在下，MB的光催化降解速率提高，降解速率分別為0.066、0.069、0.085和0.120 min?1。

本研究說明了多孔mof基材料不僅作為載體，而且作為電子受體的高性能，提高了光穩(wěn)定性和光催化活性。

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cas:150485-60-2|5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁鈀 (II)

cas:757940-49-1|1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁磷(IV)

四叔丁基酞菁硅水合物|CAS號: 85214-70-6

二氧化硅包覆菁染料殼核型納米顆粒

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