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          光電材料|cvd生長的2D WS2光電材料的光電性能對氧摻雜濃度的依賴
          發(fā)布時間:2021-12-20     作者:光電材料   分享到:

          二維過渡金屬二鹵族化合物(2D TMDCs)因其獨特的性質(zhì)被認為是下一代納米電子和光電材料。

          然而,報道的二維TMDCs的光電性能差異很大,導致光電性能變化的原因尚不清楚。

          本文研究了基于cvd生長的WS2光電探測器光電性能變化的機理。

          結(jié)果表明,采用CVD法可以在藍寶石襯底上生長尺寸為100?m的三角形單層WS2。

          此外,單層WS2可以通過聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和聚二甲基硅氧烷(PDMS)作為中間體從藍寶石襯底轉(zhuǎn)移到Si/SiO2襯底上。

          氧摻雜和硫化對cvd生長的WS2的光響應性有**影響。

          cvd生長的2D WS2的光響應性不僅取決于氧摻雜濃度,還取決于光波長。

          在本實驗條件下,由cvd培養(yǎng)的WS2含有氧氣。

          硫化可以使cvd生長的WS2的摻雜氧濃度降低,而摻雜氧可以使其增加。

          報道的基于cvd生長的WS2的光電探測器光電性能的差異是由摻雜濃度的差異造成的。

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