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          層狀雙金屬氫氧化物(LDH)的化學(xué)修飾方法(一文介紹)
          發(fā)布時(shí)間:2021-05-17     作者:axc   分享到:

          層狀雙金屬氫氧化物(LDH)的化學(xué)修飾方法(一文介紹)

          層狀雙金屬氫氧化物(英文縮寫為LDH,又稱水滑石類化合物)是少數(shù)陰離子型插層結(jié)構(gòu)材料之一,具有層間陰離子可交換、層板金屬可變價(jià)、層狀結(jié)構(gòu)穩(wěn)定等特點(diǎn)。LDH是一種二維層狀材料,基本結(jié)構(gòu)式為[M1-x2+Mx3+(OH)2]x+[An-]x/n·zH2O,M2+和M3+為二價(jià)和三價(jià)金屬陽離子,兩者與OH-共同構(gòu)成了LDH的陽離子層或主體層,層間為陰離子。圖1為CO32-插層的LDH的理論結(jié)構(gòu)。LDH主體層的M2+和M3+的種類和比例、層間陰離子和層間距都可以調(diào)控。這些性質(zhì)為LDH在超級電容器中的應(yīng)用賦予了多變性。LDH屬于贗電容型電極材料,在堿性體系下與OH-的交互作用下,LDH中的過渡金屬元素通過氧化還原反應(yīng)得失電子,從而實(shí)現(xiàn)充放電過程。LDH的電化學(xué)性能主要受比活性原子暴露率、導(dǎo)電性、電化學(xué)活性影響。使用不同的化學(xué)修飾方法可有針對性提升LDH某一方面的特定性質(zhì),從而提升LDH的電化學(xué)性能。

          層狀雙金屬氫氧化物(LDH)

          1 CO32-插層的LDH的理論結(jié)構(gòu)

          層狀雙金屬氫氧化物(LDH)的化學(xué)修飾方法介紹:

          組分調(diào)控是LDH中基本的化學(xué)修飾方法,通過調(diào)控組分,可以調(diào)控LDH的形貌、晶型、比表面積等微納特征,從而增大活性原子的暴露率,增強(qiáng)LDH的電化學(xué)性能。如圖2(a-f)或(m-o)所示,調(diào)節(jié)LDH中雙金屬元素的比例,可以調(diào)控LDH的形貌。在CoV LDH中,將Co/V的比例由1:0增加到0:1,LDH的形貌由納米線逐漸改變?yōu)榧{米片。如圖2(g-l),在單過渡金屬元素,增加過渡金屬元素的種類,得到的材料納米片的形貌特征逐漸明顯,晶相開始由非LDH相轉(zhuǎn)變?yōu)長DH相。


          層狀雙金屬氫氧化物(LDH)

          圖2. (a-f)不同Co/V比例的CoV LDH的SEM圖,(g-l)NiCoMn-OH (NiCoMn LDH)、NiCo-OH、NiMn-OH、CoMn-OH、Ni-OH、Co-OH的SEM圖,(m-o)不同Co/Ga摩爾比的CoGa LDH的SEM圖。

          LDH層間的陰離子是可以調(diào)控的,不同陰離子插層LDH,層間距會有不同。增加LDH的層間距,有助于增大LDH層板上的活性原子與OH-的接觸,從而可增大電化學(xué)性能。如圖3a所示,使用SO42-插層的MnCo-LDH,層間距達(dá)到了1.08 nm,NO3-插層的MnCo LDH的層間距為0.76 nm,Cl-插層的LDH,層間距為0.78 nm。SO42-插層的MnCo-LDH電化學(xué)性能好,NO3-插層的MnCo LDH電化學(xué)性能差。如圖3c所示,使用表面活性劑SDBS插層NiCo LDH,層間距可從0.72 nm增加到1.53 nm。接近于可剝離的層間距。

          層狀雙金屬氫氧化物(LDH)

          圖3. (a)SO42-、NO3-和Cl-插層MnCo-LDH后的層間距及其面電容,(b)葡萄糖插層NiMn LDH的層間距,NiMn-G LDH@NiCo2S4@CFC的SEM圖(NiMn-G LDH:葡萄糖插層的NiMn LDH;CFC:碳纖維布),NiMn-G LDH@NiCo2S4@CFC、NiMn-G LDH @CFC和NiCo2S4@CFC的倍率性能,(c)表面活性劑SDBS插層NiCo LDH前后的層間距,NiCo-SDBS-LDH和NiCo-LDH/β-Ni(OH)2的循環(huán)穩(wěn)定性。

          通過剝離增大LDH的比表面積,從而增多與OH-發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)的活性位點(diǎn),可增強(qiáng)LDH的電化學(xué)性能。如圖5所示,使用DMF成功剝離Ni-Al LDH,然后將其與剝離后的單層GO進(jìn)行超晶格組裝,然后使用還原劑還原,得到了Ni-Al LDH/rGO復(fù)合材料,增強(qiáng)了電化學(xué)性能。如圖4b所示,使用甲酰胺/H2O混合溶液成功剝離了δ-MnO2和Ni-Mn LDH,并通過層層組裝,得到了Ni-Mn LDH/MnO2復(fù)合材料。

          層狀雙金屬氫氧化物(LDH)

          圖4. 剝離、重構(gòu)制備的(a)Ni-Al LDH/rGO, (b) NiCo2O4/rGO和(c)Ni-Mn LDH/MnO2

          LDH的本質(zhì)是氫氧化物,導(dǎo)電性較差,通過晶相轉(zhuǎn)變將氫氧化物轉(zhuǎn)化為氧化物、硫化物、磷化物、氮化物等可**增強(qiáng)LDH的導(dǎo)電性,從而提升材料的電化學(xué)性能。其中,將LDH轉(zhuǎn)化為硫化物對導(dǎo)電性的提升明顯。如圖5a-c所示,通過硫化NiV- LDH制備NiV-S納米片,增強(qiáng)了導(dǎo)電性,提高了電化學(xué)性能。如圖5d-f,在石墨烯上制備了NiCo-LDH,通過硫化轉(zhuǎn)化為NiCo2S4,電化學(xué)性能**提高。如圖6i-r所示,使用MOF作為前驅(qū)體,通過水熱制備NiCo LDH,然后通過部分硫化得到NiCo‐LDH/Co9S8復(fù)合材料,顯示了較好的電化學(xué)性能。

          層狀雙金屬氫氧化物(LDH)

          圖5. NiV-LDH和NiV-S電極的(a)制備示意圖、(b)倍率性能和(c)循環(huán)穩(wěn)定性;(d)H-3DRG@NiCo-LDH和H-3DRG@NiCo2S4(H-3DRG:邊緣豐富的雜原子摻雜的3D石墨烯膜)的制備示意圖,(e)H-3DRG@NiCo-LDH和(f)H-3DRG@NiCo2S4的SEM圖;(g)CoNi合金和CoNi合金@CoNi硫化物的制備示意圖,(h)CoNi-LDH、CoNi-R和CoNi-R-S的XRD圖,(i)CoNi-LDH和(j)CoNi-S的SEM圖,(k)CoNi-S和CoNi-O的態(tài)密度分布圖;(l)中空的C/LDH/S復(fù)合材料的制備示意圖,(m)ZIF-67-C、(n)C/LDH和(o)C/LDH/S的SEM圖,(p)ZIF-67-C、(q)C/LDH和(r)C/LDH/S的TEM圖。


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