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          一種具有超高韌性和電導(dǎo)率的黑磷交聯(lián)石墨烯薄膜(rGO-BP-AD)介紹
          發(fā)布時(shí)間:2021-05-07     作者:axc   分享到:

          具有高力學(xué)性能的石墨烯材料在航空航天、柔性儲(chǔ)能和便攜式電子器件領(lǐng)域具有重要的戰(zhàn)略意義和研究?jī)r(jià)值。當(dāng)前,石墨烯薄膜材料的低韌性制約著其進(jìn)一步產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。

          受天然珠母貝的多級(jí)次微米-納米層狀結(jié)構(gòu)和豐富的界面相互作用啟發(fā),通過將黑磷(BP)納米片插入氧化石墨烯(GO)納米片的片層結(jié)構(gòu)中,并與長(zhǎng)鏈分子(1-氨基芘 [AP]-二(N-羥基琥珀酰亞胺)辛二酸酯[DSS] [AD])交聯(lián)反應(yīng),制備了黑磷交聯(lián)石墨烯(rGO-BP-AD)薄膜。

          rGO-BP-AD薄膜具有超高韌性(~51.8 MJ m-3)以及高達(dá)~16.7%的應(yīng)變,拉伸強(qiáng)度和電導(dǎo)率也分別達(dá)到約653.5 MPa和約493.5 S cm-1。rGO-BP-AD膜還顯示出高電磁干擾(EMI)屏蔽性能(~29.7 dB)。

          使用這種rGO-BP-AD薄膜組裝的超級(jí)電容器具有出色的柔韌性,在180°彎曲10,000次后,電容量沒有下降。BP納米片不僅通過P-O-C共價(jià)鍵鍵合作用部分還原了GO納米片,而且填充了所得石墨烯薄膜的空隙,使石墨烯薄膜更加致密,并改善了所得石墨烯薄膜中rGO納米片的取向度。

          同時(shí),AD分子與rGO納米片之間的π?π堆積相互作用也降低了石墨烯薄膜的孔隙率,提高了rGO納米片的取向度。原位拉曼光譜和分子動(dòng)力學(xué)模擬表明,rGO-BP-AD薄膜的超高韌性歸因于P-O-C共價(jià)鍵的鍵合作用、BP納米片的潤(rùn)滑作用以及AD分子與rGO納米片之間的π?π堆積相互作用的協(xié)同效果。

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          (A) 應(yīng)力-應(yīng)變曲線圖; (B) 拉伸強(qiáng)度和韌性對(duì)比圖; (C) 力學(xué)穩(wěn)定性; (D) 黑磷交聯(lián)的石墨烯薄膜與已報(bào)道的石墨烯材料的力學(xué)強(qiáng)度、韌性和電導(dǎo)率的對(duì)比圖

                為了證實(shí)BP與GO之間的相互作用,通過X射線衍射(XRD)BP納米片原位通過去除含氧官能團(tuán)而部分地原位還原了GO納米片。然后通過傅立葉變換紅外(FTIR)光譜、Raman光譜、X射線光電子能譜(XPS)、固態(tài)NMR(SNMR)、紫外可見光(Uv-vis)光譜以及高分辨透射電鏡(HRTEM)等多種表征手段相結(jié)合,證實(shí)并相互印證了BP納米片和GO納米片之間形成了P-O-C共價(jià)鍵,還推測(cè)該共價(jià)鍵可能是通過親核取代形成的(圖3)。

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                                   圖2 rGO-BP-AD薄膜的物理表征和相互作用

          (A) XRD衍射圖; (B) FTIR譜; (C) 拉曼光譜; (D) BP納米片和GO-BP薄膜的XPS P 2p光譜,表明BP納米片和GO納米片之間形成了P-O-C共價(jià)鍵; (E) BP納米片和GO-BP-III的31P SNMR光譜?梢夿P納米片中21.9 ppm處的信號(hào)峰在GO-BP-III移至20.2 ppm,表明BP納米片和GO納米片之間形成了P-O-C共價(jià)鍵; (F) BP納米片,純GO薄膜和GO-BP-III薄膜的UV-vis吸收光譜,表明GO納米片在P-O-C共價(jià)鍵形成過程中被BP納米片還原

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          (a) 考慮反應(yīng)式(1,3)的一個(gè)基本單元,反應(yīng)式(2)的機(jī)理表明,GO納米片的羧基(-COOH)與BP納米片等效地反應(yīng),通過親核取代形成P-O-C共價(jià)鍵; (b) 反應(yīng)式(4)表明,GO納米片的羥基(-OH)通過親核取代和脫水反應(yīng)與BP納米片反應(yīng),從而形成P-O-C共價(jià)鍵

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