貴金屬/過渡金屬及其化合物的摻雜改性類石墨相g-C3N4復(fù)合材料
西安pg電子官方生物提供各種石墨相氮化碳(g-C3N4)、石墨烯納米復(fù)合材料,提供石墨相氮化碳g-C3N4上負載各種金屬(Fe、Ni、Cu、Zn)以及過渡金屬氧化物(Fe2O3、Co3O4、CuO、ZnO),也提供非金屬(O、S、N、P)摻雜g-C3N4的定制合成。
化學(xué)摻雜改性能夠很好地改變g-C3N4的電子結(jié)構(gòu), 從而改善光催化性能,g-C3N4的摻雜主要包括了金屬摻雜和非金屬摻雜。金屬元素摻雜主要包括Fe、Ni、Cu、Zn等,一般認為將少量金屬離子摻雜到g-C3N4結(jié)構(gòu)單元中,可使其成為光生電子-空穴對的淺勢捕獲陷阱,延長電子與空穴的復(fù)合時間,從而提高了g-C3N4光催化性能。非金屬摻雜主要包括O、N、P、S、B、F等,一般認為3-s-三嗪結(jié)構(gòu)單元中的C、N、H元素被這些非金屬元素取代,從而形成了g-C3N4的晶格缺陷,從而達到光生電子-空穴對**分離的效果,導(dǎo)致光催化性能的提高。
下圖提供一種非金屬O摻雜中g-C3N4。實驗過程中先使用了溫和的H2O2對三聚氰胺進行預(yù)熱處理,通過產(chǎn)生的氫鍵形成MHP(氰胺-雙氧水),然后在連續(xù)不斷通氮氣的同時使用550 ℃高溫鍛燒得到超分子聚集體。發(fā)現(xiàn),氧摻雜優(yōu)化了單元結(jié)構(gòu),增強了光吸收率與電荷分離效率,同時帶隙減小,提供光催化效果,摻雜后的材料碳原子附近的電荷密度急劇降低,氮原子附近電荷密度急劇上升。
氧摻雜g-C3N4光催化劑的合成示意圖以及帶隙
定制產(chǎn)品:
Fe鐵摻雜g-C3N4
Ni鎳摻雜g-C3N4
Cu銅摻雜g-C3N4
g-C3N4負載鈀納米顆粒
Zn鋅摻雜類石墨相g-C3N4
P摻雜g-C3N4納米片
Co分子催化劑修飾介孔g-C3N4
Ni負載在C3N4納米片
Ag負載在C3N4納米片
In修飾g-C3N4復(fù)合材料
Ni/g-C3N4材料
Ni -摻雜Mo-MOF材料
碳摻雜的g-C3N4納米片
氧摻雜g-C3N4光催化劑
S攙雜端甲基化g-C3N4納米片
氮化碳g-C3N4負載金屬納米粒子
石墨相氮化碳(g-C3N4)與Bi系化合物復(fù)合材料
碘摻雜改性石墨相氮化碳(g-C3N4)
Ce摻雜石墨相氮化碳(g-C3N4)
磷(P)摻雜石墨相氮化碳(g-C3N4)材料(P-CN)
堿金屬摻雜的石墨相氮化碳
超薄多孔N摻雜納米片組裝的三維石墨相氮化碳(g-C3N4)
介孔二氧化硅包裹g-C3N4氮化碳納米顆粒
g-C3N4負載二硫化鉬
g-C3N4負載納米銀復(fù)合材料
g-C3N4負載鎳金屬納米顆粒Ni@g-C3N4
g-C3N4負載鈀金屬納米顆粒Pd@g-C3N4
g-C3N4負載鈷納米顆粒Pt@g-C3N4
物理復(fù)合改性石墨相g-C3N4
物理復(fù)合改性是目前很方便的改進方法。選用的復(fù)合物主要有金屬材料(如普通金屬、貴金屬化和雙金屬材料),半導(dǎo)體材料(如金屬氧化物、金屬氫氧化物、金屬硫化物、金屬復(fù)合物、合成化合物、金屬有機框架以及其他),類石墨烯材料(如石墨烯、 氧化石墨烯、碳納米管等),高分子化合物(如P3HT、PANI等)。復(fù)合后g-C3N4的光催化性能都有一定提高。并且g-C3N4與復(fù)合物質(zhì)之間并非簡單的物理混合,而是充分接觸形成異質(zhì)結(jié)。由于二者導(dǎo)帶和價帶位置的差異,g-C3N4光激發(fā)產(chǎn)生的電子或空穴轉(zhuǎn)移至復(fù)合物的導(dǎo) 帶或價帶中,電子空穴分離,復(fù)合率降低,從而可以更**地利用光激發(fā)產(chǎn)生的活性粒子。
石墨相氮化碳(g-C3N4)由于其廉價、易得的優(yōu)點,廣泛應(yīng)用于光催化領(lǐng)域,但由于其光生載流子易于復(fù)合,限制了其光催化活性進一步提升。光催化制氫過程中通常需要使用犧牲試劑捕獲空穴,以提升載流子分離。窄帶隙(2.2 eV)n型半導(dǎo)體三氧化二鐵(α-Fe2O3),由于其廉價、熱力學(xué)穩(wěn)定性和環(huán)境友好的特點,是一種潛在的可見光催化劑。
西安pg電子官方生物提供物理復(fù)合改性石墨相g-C3N4產(chǎn)品:
MoS2摻雜石墨相氮化碳(g-C3N4)
WS2摻雜石墨相氮化碳(g-C3N4)
SnS2摻雜石墨相氮化碳(g-C3N4)
TiO2摻雜石墨相氮化碳(g-C3N4)
聚乙烯醇(PVA)包覆g-C3N4
聚己內(nèi)酯(PCL)包覆g-C3N4
四氮化三碳g-C3N4負載TiO2二氧化鈦復(fù)合材料
四氮化三碳g-C3N4-半導(dǎo)體納米粒子復(fù)合材料
四氮化三碳g-C3N4負載ZnO氧化鋅納米粒子
四氮化三碳g-C3N4負載SnO2氧化錫納米顆粒
四氮化三碳g-C3N4負載MnO2二氧化錳納米顆粒
四氮化三碳g-C3N4負載CO3O4氧化鈷納米顆粒
四氮化三碳g-C3N4負載Fe3O4氧化鐵納米顆粒
四氮化三碳g-C3N4負載Fe2O3三氧化二鐵納米顆粒
g-C3N4負載NiO氧化鎳納米顆粒
g-C3N4負載Cu2O氧化亞銅納米顆粒
g-C3N4負載RuO2氧化釕納米顆粒
g-C3N4負載CdSe硒化鎘納米顆粒
g-C3N4負載Pd納米顆粒Pd@g-C3N4
g-C3N4氮化碳負載銅納米粒子
g-C3N4負載Co3O4-ZnO納米顆粒
氮化碳g-C3N4納米片負載核殼結(jié)構(gòu)
g-C3N4/硫化銅納米粒子
體相氮化碳(B-CN)和介孔石墨相氮化碳(mpg-CN)
TiO2納米顆粒均勻負載于多孔g-C3N4表面
TiO2/多孔g-C3N4納米復(fù)合材料
負載過渡金屬元素的C3N4二維納米片
負載鐵、鈷、鎳的C3N4二維納米片
氨基化C3N4氮化碳納米片(NH2-g-C3N4)
g-C3N4-CdS復(fù)合材料
g-C3N4納米片與SnS納米片復(fù)合材料
g-C3N4的非金屬摻雜主要有O、C、S、B、I、F等,
g-C3N4的金屬摻雜主要有Zn、Fe、Ni、Cu、Co和堿金屬。
BiOCl/g-C3N4異質(zhì)結(jié)
TiO2/g-C3N4異質(zhì)結(jié)
Bi2MoO6/g-C3N4異質(zhì)結(jié)
Al2O3/g-C3N4異質(zhì)結(jié)
Ag3PO4/g-C3N4等異質(zhì)結(jié)
金屬/g-C3N4異質(zhì)結(jié)
其他半導(dǎo)體/g-C3N4異質(zhì)結(jié)
碳材料/g-C3N4異質(zhì)結(jié)
導(dǎo)電聚合物/g-C3N4異質(zhì)結(jié)
可見光響應(yīng)能力的石墨相氮化碳(g-C3N4)材料
硫化鉍納米顆粒引入g-C3N4類石墨相氮化碳
不同形貌及性能的類石墨相氮化碳(g-C3N4)
u-g-C3N4呈片狀結(jié)構(gòu)石墨相氮化碳
m-g-C3N4呈塊狀結(jié)構(gòu)石墨相氮化碳
Fe2O3/g-C3N4 三氧化二鐵修飾石墨相氮化碳
黑磷納米片改性的石墨相氮化碳納米片(BPCNS)
具有三嗪和七嗪結(jié)構(gòu)的石墨相氮化碳(CNV)
銀基/石墨相氮化碳Ag/g-C3N4
氧化鋯/石墨相氮化碳復(fù)合材料ZrO2/g-C3N4
石墨相氮化碳(g-C3N4)和鈦酸鉍復(fù)合材料
Bi(12)TiO(20)/g-C3N4催化劑
載鈷介孔石墨相氮化碳(Co/mpg-C3N4)
BiVO4/石墨相氮化碳復(fù)合物(BiVO4/g-C3N4)
石墨相氮化碳(g-C3N4)表面改性的商品化LiCoO2復(fù)合材料
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