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          甘草次酸(Glycyrrhetinic acid)的化學修飾和結(jié)構(gòu)改造(詳細合成路線)
          發(fā)布時間:2020-07-13     作者:zhn   分享到:

          甘草次酸(Glycyrrhetinic acid)的化學修飾和結(jié)構(gòu)改造(詳細合成路線)

          西安pg電子官方生物科技有限公司是糖化學供應商,提供甘草次酸修飾高分子聚合物,熒光標記甘草次酸定制,甘草次酸偶聯(lián)活性物質(zhì)定制,甘草次酸修飾的多肽蛋白定制,甘草次酸改性定制服務。功能性甘草次酸衍生物的定制服務。

           

          [甘草次酸簡介]

          甘草次酸(Glycyrrhetinic acid)是甘草的主要活性成分,是屬于齊墩果烷型的三萜類化合物,它與齊墩果酸和熊果酸具有相似的化學結(jié)構(gòu)。

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          西安pg電子官方生物提供熒光標記甘草次酸Glycyrrhetinic acid(簡稱GA)

          疊氮修飾甘草次酸 N3-GA

          氨基修飾甘草次酸NH2-GA

          生物素修飾甘草次酸Glycyrrhetinic acid

          DBCO標記甘草次酸DBCO-GA

          羅丹明標記甘草次酸RB-GA

          BODIPY標記甘草次酸BODIPY-Glycyrrhetinic acid

          FITC標記甘草次酸,F(xiàn)ITC-Glycyrrhetinic acid

          CY3-甘草次酸,CY3-Glycyrrhetinic acid

          CY3.5-甘草次酸,CY3.5-Glycyrrhetinic acid

          CY5-甘草次酸,CY5-Glycyrrhetinic acid

          CY5.5-甘草次酸,CY5.5-Glycyrrhetinic acid

          CY7-甘草次酸,CY7-Glycyrrhetinic acid

          CY7.5-甘草次酸,CY7.5-Glycyrrhetinic acid

          BODIPY-甘草次酸,BODIPY-Glycyrrhetinic acid

           

          [甘草次酸的化學修飾]:

          分別或者同時對3位羥基和30位羧基進行了化學修飾,得到了一系列的化合物。對3位羥基進行化學修飾時,經(jīng)常將30位羧基以羧酸甲酯的形式來保護,在3位羥基上引入各種酰基、糖配基等,以得到活性較高的化合物。

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          從圖1甘草次酸的結(jié)構(gòu)式可以看出,A、C.E 3個環(huán)含有官能團,因此這3個環(huán)成為對甘草次酸進行結(jié)構(gòu)改造的位點其中A. C兩環(huán)改造多。通過結(jié)構(gòu)改造得到了一些新化合物。

           

          1.將甘草次酸甲酯在干燥的乙醇-氯仿中與無水醋酸鈉、五氯化磷反應,再用碳酸氫鈉溶液中和,得到A環(huán)重排后的化合物Va,skam等還通過類似方法得到了化合物Va的異構(gòu)體Vb和Vc反應式如圖所示。

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          2.將甘草次酸甲酯氧化后得到的3-羰基化合物與對甲基苯磺酸、異丙烯醇乙酯的混合物緩慢蒸餾后,把剩余物加入吡啶和苯中稀釋處理,所得結(jié)晶用柱層析純化,得到烯醇式乙酯V d再將化合物V d在乙酸中與溴反應,把所得溴化物、氧化鎂在DMF中加熱回流,再用濃鹽酸處理,柱層析純化,得到甘草次酸甲酯的1烯基- 3羰基化合物Ve。反應式如下圖所示。

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          3.以30乙酰甘草次酸甲酯為原料,經(jīng)過還原、氧化、溴化、還原、;A化等6步反應,得到化合物VIf反應式如圖所示。

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          pg電子官方提供的甘草次酸衍生物如下:

          甘草次酸修飾的殼聚糖(CTS-GA)

          甘草次酸-殼聚糖-聚己內(nèi)酯GA-CS-PCL

          PEG-GFLG-PEI-PLGA

          甘草次酸修飾多西紫杉醇脂質(zhì)體

          聚乙二醇單甲醚修飾甘草次酸MPEG-GA

          甘草次酸-聚乙二醇-膽固醇偶合物GA-PEG-Chol

          乳糖酸化甘草次酸殼聚糖

          海藻酸鈉-羧甲基殼聚糖(ALG-CMC)

          甘草次酸修飾可生物降解的聚天冬氨酸芐酯PBLA-GA

          低分子肝素-甘草次酸聚合物mPEG-BTC與mPEG-Gal

          甘草酸表面修飾鈣黃綠素白蛋白納米粒(Cal-BSA-NP-GL)

          甘草酸表面修飾萬乃洛韋白蛋白納米粒(VACV-BSA-NP-GL)

          甘草次酸硬脂醇酯-3-O-半乳糖苷(Gal-GAOSt)

          甘草次酸(GA)靶向阿霉素脂質(zhì)體(GA-DOX-Lip)

          DOX-ALG-mOEG

          甘草次酸修飾的海藻酸GA-Alg

          甘草次酸修飾的殼聚糖(CTS-GA)

          甘草次酸修飾海藻酸鈉GA-ALG

          甘草次酸修飾PEG-PLGA納米粒

          膽固醇-聚乙二醇-甘草次酸(Chol—PEG—GA)修飾脂質(zhì)體

          甘草次酸修飾的金屬有機框架

          UiO-66- NH2-GA

          甘草次酸(GA)靶向阿霉素脂質(zhì)體(GA-DOX-Lip)

          殼聚糖/甘草次酸修飾泊洛沙姆復合藥物納米球

          甘草次酸修飾的漢黃芩素脂質(zhì)體

          甘草次酸修飾殼聚糖5-氟尿嘧啶

          甘草次酸修飾的聚天冬氨酸芐酯納米粒

          甘草次酸修飾納米氧化石墨烯GA-DTX-NGO

          甘草次酸修飾馬錢子堿脂質(zhì)體( CPGL)

          甘草次酸[GA-N(CH3)2]修飾的海藻酸鈉[ALG-GA-N(CH3)2

          熒光標記甘草次酸Glycyrrhetinic acid

           


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