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          基于GeSn/Ge雙層納米線光電探測器件及性能表征
          發(fā)布時間:2021-03-04     作者:zhn   分享到:

          基于GeSn/Ge雙層納米線光電探測器件及性能表征

          研究人員利用分子束外延技術(shù),成功制備出大面積、高密度且高長寬比的Ge納米線,并利用其作為模板,通過二次沉積法獲得了Sn組分可達~10%的GeSn/Ge雙層納米線結(jié)構(gòu)。由于納米線具有柔性且**的比表面積,能夠通過彈性形變的方式自主弛豫釋放GeSn/Ge之間晶格失配引入的應(yīng)力,從而****GeSn/Ge界面處的缺陷形成。由于GeSn具有較窄的禁帶寬度,因此基于GeSn/Ge雙層納米線的光電探測器件比Ge納米線光電探測器具有更長的探測波長,延伸到2 μm以上。為了**窄禁帶寬度GeSn引起的暗電流增加,研究人員進一步引入具有鐵電性的P(VDF-TrFE)離子膠作為柵介質(zhì),通過側(cè)柵調(diào)控大幅降低了GeSn/Ge雙層納米線光電探測器的暗電流與靜態(tài)功耗,從而實現(xiàn)了兼具長波長與低暗電流的光電探測,對于拓展Ⅳ族材料納米線結(jié)構(gòu)在光電探測領(lǐng)域的研究與應(yīng)用具有重要參考意義。

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          以上資料來自西安pg電子官方生物小編zhn2021.03.4

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