西安pg電子官方生物科技有限公司可提供各類化合物陶瓷靶材和鍍膜材料，產(chǎn)品包含氧化物、氟化物、氮化物、碳化物、硼化物、硫化物、硅化物、硒化物、碲化物、磷化物以及各類混合摻雜物，純度99.5%-99.999%，適合磁控濺射鍍、熱蒸鍍、電子束蒸鍍，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于各類半導(dǎo)體行業(yè)、太陽能光伏光熱行業(yè)、建筑、裝飾、汽車、平面顯示、LCD、LED、集成電路，元器件、磁記錄、裝飾、工具鍍膜、航空航天、軍工、科研等領(lǐng)域。

靶材是制備薄膜的主要材料之一，主要應(yīng)用于集成電路、平板顯示、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等，對材料純度和穩(wěn)定性要求高。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料，已得到空前的發(fā)展，靶材市場規(guī)模日益膨脹。

陶瓷靶材的種類：

    （1）按應(yīng)用來分，可分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、磁記錄陶瓷靶材、光記錄陶瓷靶材、超導(dǎo)陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材等。

    （2）按化學(xué)組成，可分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面顯示ITO陶瓷靶材國內(nèi)已廣泛生產(chǎn)應(yīng)用。高介電絕緣膜用陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材具有廣闊的應(yīng)用前景。

濺射陶瓷靶材的制備方法：常用的成型方法有干壓成型、冷等靜壓成型等。冷等靜壓成型由于具有坯體密度高而且均勻，磨具制作方便，成本較低等優(yōu)點，故而成為常用的成型方法。陶瓷靶材的燒結(jié)常采用常壓燒結(jié)、熱壓燒結(jié)及氣氛燒結(jié)等方法。

 陶瓷靶材的特性要求：

    （1）純度：陶瓷靶材的純度對濺射薄膜的性能影響很大，純度越高，濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好。

（2）密度：為了減少陶瓷靶材的氣孔，提高薄膜性能，要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實，濺射顆粒的密度月底，放電現(xiàn)場就越弱，薄膜的性能也越好。

    （3）成分與結(jié)構(gòu)均勻性：為保證濺射薄膜均勻，尤特在復(fù)雜的大面積鍍膜應(yīng)用中，必須做到靶材成分與結(jié)構(gòu)均勻性好。

西安pg電子官方生物科技有限公司可根據(jù)客戶要求定制各種金屬靶材，多種形態(tài)（平面靶、多弧靶、旋轉(zhuǎn)靶及其它異形靶材），純度，包裝從克至噸級的高純金屬單質(zhì)。

以下是客戶經(jīng)常購買的陶瓷濺射靶材產(chǎn)品目錄

硫化鎘(CdS)陶瓷濺射靶材

硫化鐵(FeS)陶瓷濺射靶材

硫化錳(MnS)陶瓷濺射靶材

硫化鉭(TaS)陶瓷濺射靶材

硫化鎂(MgS)陶瓷濺射靶材

硫化銅(CuS)陶瓷濺射靶材

硫化鉛(PbS)陶瓷濺射靶材

硫化鈮(NbS)陶瓷濺射靶材

硫化鎢(WS2)陶瓷濺射靶材

硫化銻(Sb2S3)陶瓷濺射靶材

硫化鈰(Ce2S3)陶瓷濺射靶材

硫化鉬(MoS2)陶瓷濺射靶材

硫化銦(In2S3)陶瓷濺射靶材

硫化鋅(ZnS)陶瓷濺射靶材

氧化鋁(Al2O3)陶瓷濺射靶材

四氧化三鐵Fe3O4陶瓷濺射靶材

鎳酸鑭(LaNiO3)陶瓷濺射靶材

氧化鈧(Sc2O3)陶瓷濺射靶材

氧化鋅鋁(AZO)陶瓷濺射靶材

氧化錫氟(FTO)陶瓷濺射靶材

鐵酸鑭(LaFeO3)陶瓷濺射靶材

鈦酸鍶(SrTiO3)陶瓷濺射靶材

氧化錫銻(ATO)陶瓷濺射靶材

氧化鎵(Ga2O3)陶瓷濺射靶材

錳酸鑭(LaMnO3)陶瓷濺射靶材

釕酸鍶(SrRuO3)陶瓷濺射靶材

氧化鉍(Bi2O3)陶瓷濺射靶材

氧化鎵鋅(GZO)陶瓷濺射靶材

氧化鎂(MgO)陶瓷濺射靶材

錳酸鍶(SrMnO3)陶瓷濺射靶材

鈦酸鉍(BiTiO3)陶瓷濺射靶材

氧化釓(Gd2O3)陶瓷濺射靶材

氧化鉬(MoO3)陶瓷濺射靶材

二氧化鈦(TiO2)陶瓷濺射靶材

鈦酸鋇(BaTiO3)陶瓷濺射靶材

二氧化鉿(HfO2)陶瓷濺射靶材

氧化鈮(Nb2Ox)陶瓷濺射靶材

五氧化三鈦Ti3O5陶瓷濺射靶材

氧化鈰(CeO2)陶瓷濺射靶材

氧化鈥(Ho2O3)陶瓷濺射靶材

氧化鎳(NiO)陶瓷濺射靶材

氧化鉭(Ta2O5)陶瓷濺射靶材

溫馨提示：靶材形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環(huán)，圓棒，臺階圓片，臺階矩形，三角形，管狀靶，套靶等或按客戶要求訂做，可根據(jù)客戶提供的圖紙要求加工. 并可以為客戶提供部分靶材的定制服務(wù).西安pg電子官方生物提供的所有產(chǎn)品僅用于科研，axc.2021.01.21